牆麵大理石拋光怎麽操作的？

一、是做結晶還是拋光啊？如果像百潔布的薄的圓片，那是水拋。如果像很細鋼絲棉或尼龍棉的大些的圓盤片，那是做結晶。除非理石表麵有裂紋，凹凸不平整，補膠等毛病，輕易不能拋光。人工小機器拋無論如何也拋不到理石原有光度。理石拋光（水拋）無非就是從80號有的直接從120號拋片，一直打到1500或2400號看什麽板材決定。有的異型還要手工砂紙拋光，要拋到3200號。二、大理石國際統稱雲石，以其自然古樸的紋理，色澤鮮豔亮麗，被廣泛用於建築內飾牆麵，由於大理石材質比較疏鬆，質地較軟吸水率相對比較高。節理線比較多，故在加工，運輸安裝和使用過程中容易出現各種汙染和翹曲變形，易失光等現象的發生，影響了裝飾效果，所以對大理石的護理也是護理行業的必修課。要對大理石飾麵的狀況進行對比分析，護理的方法可分為：1：翻新研磨處理。2：局部落差處理。3：清洗防護處理。4：結晶拋光處理。5：無縫填補處理等。下麵我們先談談翻新研磨處理、結晶拋光處理的施工工藝：首先在翻新打磨前先做防水，目的是使到石材盡可能少吸水，從而達到降低石材吸水律，300#後再做防水，那時候因為削磨會造成防水的效果降低或消失，條件允許的情況下最好800#後再做一次防水。遇到比較疏鬆的石材，例如白沙米黃、沙岩、熱帶雨林、木紋石等要先用高含量密封固化劑（如超硬無機塗料、含量40%以上有機矽樹脂密封劑）作前處理，使到石材在填補疏鬆的同時也硬化了材質。1、粗磨：使用50#、150#、300#、500#金鋼石樹脂硬磨塊（粗磨不要使用軟水磨片進行研磨，容易出現波浪，影響平整度）粗磨給水量稍大點但記住不能太多，每道磨片磨完要徹底吸水，檢查剪口磨料留下的深劃道是否用50#磨片磨掉，以此類推，機器走井字研磨，粗磨占整體研磨45%時間，是確保工程竣工質量驗收的關健環節。2、細磨：使用800#、1000#、2000#金鋼石樹脂軟水磨片，細磨占整體研35%時間，細磨到800#後有初光出現、細磨到2000#後光澤度可達50度。3、精磨：使用3000#金鋼石樹脂軟水磨片噴灑A2研磨、進行離子交換、精磨占整體研磨20%時間，精磨後光澤度提升很高，大理石石的表麵密度提高了，為拋光劑（NO2+Q5鏡麵修複劑）打下堅實的基礎，增強了拋光材料的附著力。4、拋光：使用功率2HP以上，轉速175---210轉/分鍾，重量45-70公斤晶麵機、獸毛含量70%的獸毛墊、3M墊、納米墊、配合大理石鏡麵複顏霜NO2、2X鏡麵鎖亮刀入乳Q5進行拋光研磨，拋光後大理石表麵光澤度可達最少能在90—100度以上。5、遇到比較難以做透亮的石材，如爵士白、樹脂類的人造石，假如在做完上述方法仍然不夠水亮，那麽就再噴灑一次A2用3000#磨至幹，然後重複用納米墊、配合大理石鏡麵複顏霜NO2、2X鏡麵鎖亮刀入乳Q5進行拋光研磨，納米無機高分子共聚物形成結晶層、呈玻璃質狀、水亮的效果就一定能出來了。具有較高的硬度、耐磨度、透明度，抗水、抗汙、防滑等作用。三、大理石磨塊拋光與打蠟的區別本質區別1、大理石磨塊拋光是石材晶麵處理的前奏或石材加工中必要的一道工藝流程。其主要原理是利用由無機酸、金屬氧化物等物質合成的壓製磨塊配合機械磨盤的壓力、高速磨削力、摩擦熱能，水的作用在比較光滑的大理石表麵進行物理、化學化合作用，從而形成新的光亮晶體層。此晶體層具有超亮的、清晰的光度，光度可達90-100度。此晶體層是石材表層（1-2mm厚）的改性化合晶體層。2、大理石清洗是大理石打蠟拋光的前奏，大理石清洗打蠟拋光是屬於80--90年代初期比較流行的大理石清潔保養保護措施，如今已經失去市場和存在的意義。它的本質是在新鋪石材（拋光板）麵上覆蓋的一種丙烯酸樹脂與乳液的聚合物的薄薄塗層，就是我們常說的水蠟或地板蠟。再經過高速、低壓力的拋光機配合纖維墊在石材表麵摩擦，使樹脂塗層更加光亮的一個過程。由於產品的更新，後來又出現了特光蠟、免拋蠟等，此塗層就類似於木地板上油的清漆。3、大理石護理晶麵處理前的磨塊拋光工藝是石材表層與化學物的物理和化合作用過程。石材表層與底層完全化合成一個整體，不存在脫離層。4、大理石打蠟拋光上麵的蠟層是附著於石材表麵的，一層樹脂膜，與石材本身不存在化合反應。此蠟膜層可用刀片輕輕一鏟，可以將蠟膜削離於石材表麵。表象區別1、大理石磨塊打磨拋光是石材護理晶麵處理的前奏，石材護理拋光後光度高、清晰度高，耐磨、耐踩，不易刮花，是石材使用功能的真實體現和價值延伸。2、石材打蠟拋光後的光度低，光度不清晰、而且很模糊，不耐磨、不耐水，易刮花、氧化變黃使石材本質形象降低。